DigitalMicrograph 软件中的新增功能
探索 DigitalMicrograph 3.62 中用于 4D STEM、EELS 和谱成像的强大新工具。
STEMx OIM
直接在 DigitalMicrograph 中从 4D STEM 数据计算取向和物相分布图，用户友好的工作流程 – 无需脚本。
自定义扫描
- 解锁多个新的扫描模式，用于电子能量损失谱（EELS）、四维扫描透射电子显微术（4D STEM）或任何其他谱成像实验，甚至可以通过脚本创建自己的自定义扫描模式。
- 通过新的稀疏采集控制以及非光栅扫描模式，帮助减少剂量分割数据或原位谱成像实验采集过程中的样品损坏。
Survey Mapping
- 通过实时 EELS 厚度面分布、实时虚拟光阑成像、实时差分相位衬度成像或通过脚本进行定制图像处理，获取实时结果。
- 通过实时 EELS 和 4D STEM 分析进行原位实验，生成的数据量比全谱成像小。
资源
下载
访问最新版本的应用软件、固件和许可工具
计算机推荐
查看系统要求和硬件指南以获得最佳软件性能
EELS.info
探索电子能量损失谱（EELS）技术家族——从逐步实验指南到带有可下载谱图的交互式图集
EM Academy
通过自定进度课程获得实际经验，提升您的电子显微术研究
问题和错误报告
将软件问题或错误直接提交给开发团队进行审查
脚本
下载自动化和分析脚本以简化您的工作流程
软件开发工具包
访问 SDKs 用于集成和扩展软件功能
什么是CL？
提升您的阴极荧光旅程——从实验指南到更深入的应用洞察
STEMx 图像致谢：Ni 纳米片样品由 Felipe Quiroga-Suavita (LPCNO - INSA Toulouse 和 SMS - UNSW Sydney, EU MSCA-AUFRANDE) 制备。