应用说明
Argon ion polishing of focused ion beam specimens in PIPS II system
November 6, 2015
PIPS II 系统
型号 695
精密离子减薄仪用于高质量透射电镜样品的制备，它可精确定位减薄位置并对工艺参数进行精确控制
优点
这是对原始 PIPS™ 离子减薄系统的革命性升级，该系统为透射电子显微镜 (TEM) 样品制备设定了 20 多年的行业标准。
使用 X、Y 样品台来把减薄区域精确定位到离子束交叉点
改进低电压性能的离子枪，有用电压低至 100 伏，从而快速安全地对 FIB 制备的TEM样品进行抛光
利用 DigitalMicrograph® 软件和光学数码显微镜进行图像存储和分析
10 英寸彩色触摸屏可用于显示和控制所有 PIPS II 参数
产品说明书
应用
借由 Gatan 解锁电子显微技术的强大潜力——探索前沿应用，深入参与专家主导的网络研讨会，并通过详尽的应用指南汲取专业洞见，赋能科研创新。
Untitled
Ready, set, go! Ensuring an identical TEM specimen preparation route again and again
October 29, 2015
Untitled
Application of PIPS II system for cross-sectional TEM specimen preparation of semiconductor devices
September 30, 2015
媒体库
沉浸于科学发现的世界——探索揭示微观奥秘的震撼显微图像，同时观看展示 Gatan 技术实际应用的视频与教程。
Atomic level EELS prepared in PIPS II system following FIB preparation (image 2)
Atomic level EELS prepared in PIPS II system following FIB preparation
AlPb melt-spun ribbon with 1 - 3% at wt Ga HR-STEM using TEAM 0.5
Ca3Co4O9 on SrTiO3 substrate
资源
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